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抛光剂空气压缩机制氮设备装片机/导片机

产品图片	产品名称/型号	产品简单介绍
	优质硅砂矿擦洗砂铸造硅砂	优质硅砂矿擦洗砂,硅砂矿优质擦洗砂,专业的硅业有限公司,以生产优质擦洗砂.具有擦洗,筛分,螺旋分级,烘干革命等完整的生产工艺流程.月产量4000吨. 有30~50目,50~100目,70~140目三个品种,其他品种需求可以按需求企业要求供应.成品砂粒呈圆形,椭圆形,含泥量小于0.03%.二氧化硅达98.8%耐火度大于1750℃
	ESEC- 2006/PI 装片机 ESEC- 2006/PI	ESEC- 2006/PI 装片机目前可提供ESEC公司-瑞士产的银浆全自动装片机,共肆台.型号:ESEC-2006/PI 　1台 ESEC-2006HR 2台其中ESEC-2006/2007HR/X 完好,可试机,其余正在修复中．适用于集成电路／二／三极管／ＬＥＤ等半导体地焊接．
	无油空气压缩机 ZT255-125	平稳的生产工艺、优质的终端产品、最低的运行和维护成本并且合乎环保要求。这些是无油空气压缩机固有的特点。评估产品并作出正确选择：ZR/ZT110-900 系列。
	半导体矽片抛光剂 MSⅠ100、MSⅠ150、MSⅠ250、MSⅠ010	本系列产品适应半导体材料如矽片、锗单晶片、砷化镓晶片的表面抛光工艺，具有去除速率高、使用方便、抛光效果好等特点。抛光后表面的粗糙度可以达到0.2mm以下，同时可以提高晶片的粗糙和平行度等，而且无画伤、无抛光雾产生。本公司在为用户提供高品质产品的同时，降低了加工成本。
	精密电子清洗剂 NP-G801	本品特别适用于LCD液晶屏、PCB电路板、LCM模块、半导体晶圆、精密零件、光学镜片、音频磁头、磁性材料等清洗领域去除残留液晶、油污等污染物。
	半导体粘结蜡 NP-E80	本产品适用于半导体材料如硅片，锗片，砷化镓，蓝宝石衬底片，碳化硅晶片等表面加工过程中的粘结工艺，还适用于如铌酸锂，钽酸锂，蓝宝石等晶片的加工过程所需要的粘结物。本产品的热伸缩系数小，适合作为精密加工过程中的粘结物质。本产品使用方法简单，只需要选择合适温度熔点的蜡，加热晶片承载盘至蜡的融化温度，然后在均匀涂抹蜡在承载盘上面，放入晶片，然后在晶片施加适当压力冷却至室温。既可以进行抛光加工或者其他表面加工过程。
	去蜡清洗剂 NP-E800系列	NP-E800系列去蜡清洗NP-E800系列去蜡清洗剂适用于各种半导体材料、水晶材料、磁性材料等表面加工过程中粘结蜡的清洗，同时对晶片表面颗粒物和各种有机物、指纹等污染物有超强的净洗能力，洗后晶片表面无蜡残留，而且对半导体材料和光学材料本身无腐蚀。剂适用于各种半导体材料、水晶材料、磁性材料等表面加工过程中粘结蜡的清洗，同时对晶片表面颗粒物和各种有机物、指纹等污染物有超强的净洗能力，洗后晶片表面无蜡残留，而且对半导体材料和光学材料本身无腐蚀。
	半导体硅片抛光剂另议	本系列产品适应半导体材料如硅片，锗单晶片，砷化镓晶片的表面抛光工艺，具有去除速率高、使用方便、抛光效果好等特点。抛光后晶片表面的粗糙度可以达到0.2nm以下，同时可以提高晶片的粗糙度和平行度等，而且无划伤，无抛光雾。本公司在为用户提供高质量产品的同时，又降低了加工成本，本系列产品是替代进口产品的最佳选择
	蓝宝石衬底抛光剂 NP-P600	蓝宝石衬底抛光剂适用于衬底材料如蓝宝石，碳化硅等超硬晶体的表面抛光.本抛光剂采用国际先进技术，从而实现了快速的抛光速率,而且可以保证抛光片的表面粗糙度达到较高的水平。
	Boge博格微油空气压缩机 S60	（Boge波格-S60）(微油)排气量（m2/min）：6排气压力（MPa）：0.7~0.9排气温度（0C）：：（dBA）：65电机功率（KW）：37电压：（V）/频率Hz：380/50润滑水量（L）：30外长（mm）： 1530型宽（mm）： 990尺高（mm）：1600寸重量（Kg）：790
	阿特拉斯空压机 Z系列无油螺杆压缩机	Z系列无油螺杆压缩机排气量：2～126 M3/Min 排气压力：7～10 bar (e)
	氨分解制氢装置 AQ系列和HC系列	该系统是一种简便获得氢氮混合气的方法，投资少、效率高。通过自动温控仪控温，阀门调节流量，无需要特别训练的操作人员，即可得到连续稳定的气量，使用寿命更长，更方便。该设备结构紧凑、占地面积小，为整体撬装式；安装过程简单，无须基建，就地摆放，连接好水、电、进出气管就可投入正常生产。分解压力低，一般为0.05MPA;即用即分解,在额定产气范围内可随意波动用气,一般情况下无须储罐储存氢气;为无氧制氢,制氢全过程均为无氧环境.
	氮氢自动分配装置各种型号	适用于对配氢量要求高、氢含量精度在+-01%、各种范围氮气流量的场合，如电子、冶金、化工、化纤、玻璃、医药、热处理等部门；也可用于氢脱氧纯化装置中，实现自动控制。
	膜分离制氮装置 NM-3000-1	当混合气体在腊两侧压力差的作用下，渗透速率相对快的气体如水、氢气、拟气、硫化氢、二氧化碳等透过膜后，在膜的渗透侧被富集，而渗透速率相对较慢的气体如甲烷、氮气、一氧化碳和氩气等则被滞留在膜的滞留侧被富集，从而达到混合气体分离的目的。系统由空气压缩机、过滤器、膜组分离器组成，压缩空气经过滤器过滤后进入膜组，空气中的氧气，水蒸气和少量的二氧化碳透过膜进入膜的另一侧被富集；而氮气在膜滞留侧被富集。被富集的氮气压力几乎和进入膜分离器的压缩空气压力相差不多，动力损耗较小。
	氢脱氧纯化装置 NTH系列	普氮和氢气在混合器中充分混合后，在脱氧催化剂的作用下产生2H2+O2=2H2O的化学反应，达到掊氧目的。氮气中的消气经过冷却器脱水，然后氮气继续进入干燥器干燥，使氮气露点达到-60度左右，干燥器配置两台，其中一台干燥器进行吸咐干燥，另一台把已吸咐饱和消气和二氧化碳的干燥器进行再生，为下一吸咐周期做好准备经干燥后的氮气通过过滤器过滤后，最后得到便是高纯度氮气。
	碳脱氧纯化装置 NTC系列	在碳载型催化剂的作用下,氮气中的残氧和催化剂本揣所提供的碳发和反应面除去氮气中的氧,反应式为:C+02=C02,脱氧后氮气中的残余水分有二氧化碳经过冷却器\干燥器脱除,使氮气露点达度左右;干燥器配置两台,其中一台干燥进行吸咐干燥,另一台把忆吸咐饱和水气和二氧化碳的干燥器进行再生,为下一吸咐周期做好准备,经干燥后的氮气通过过滤器除尘,最后得到的便是同纯氮气(含苞欲放氧量,最高脱氧尝试可达1PPM). 适用范围:特别适用于磁性材料\电子行业等对氧\氢有严格要示的工艺.
	氮气纯化装置 NTC系列	PSA变压吸咐制氮出来的氮气一般纯度在95%-99.99%之间,如需要更高的氮气纯度,可在PSA制氮装置后配置纯化装车进一步除氧,可使氮气的纯度达到99.99995%以上.
	轮胎充气装置 NP95-5B/NP95-10B	全自动高纯度轮胎充氮装轩，采用日本武田碳分子筛，压力控制元件均采用原装进口部件，充分提高品质保障，为用户创造更大的价值。空气预处理、制氮、产出气缓冲计量，该流程均在二个大容量吸咐塔内一次完成，气路道由网络板集成块组成，结构简洁，操作方便。
	变压吸咐（PSA）制氮装置 NT-98	变压吸咐（PSA）制氮装置吸咐制氮装置是以空气为原材料，利用一种高效能、高选择的固体吸咐剂对氮和氧的选择性对空气中氮和氧的分离出来。
	导片机装片机 DP-3	导片机装片机硅料腐蚀清洗机设备简介： 1）主要用于太阳能片生产中硅料的清洗、腐蚀。2）工艺流程：喷淋＋龙头→碱液加热→QDR+氮气鼓泡→ 盐酸→QDR＋氮气鼓泡 3）本设备采取手动控制，其工艺时间可以自行调节