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抛光剂
空气压缩机
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装片机/导片机
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优质硅砂矿擦洗砂
铸造硅砂
优质硅砂矿擦洗砂,硅砂矿优质擦洗砂,专业的硅业有限公司,以生产优质擦洗砂.具有擦洗,筛分,螺旋分级,烘干革命等完整的生产工艺流程.月产量4000吨. 有30~50目,50~100目,70~140目三个品种,其他品种需求可以按需求企业要求供应.成品砂粒呈圆形,椭圆形,含泥量小于0.03%.二氧化硅达98.8%耐火度大于1750℃
ESEC- 2006/PI 装片机
ESEC- 2006/PI
ESEC- 2006/PI 装片机 目前可提供ESEC公司-瑞士产的银浆全自动装片机,共肆台.型号:ESEC-2006/PI 1台 ESEC-2006HR 2台 其中ESEC-2006/2007HR/X 完好,可试机,其余正在修复中.适用于集成电路/二/三极管/LED等半导体地焊接.
无油空气压缩机
ZT255-125
平稳的生产工艺、优质的终端产品、最低的运行和维护成本并且合乎环保要求。 这些是无油空气压缩机固有的特点。 评估产品并作出正确选择:ZR/ZT110-900 系列。
半导体矽片抛光剂
MSⅠ100、MSⅠ150、MSⅠ250、MSⅠ010
本系列产品适应半导体材料如矽片、锗单晶片、砷化镓晶片的表面抛光工艺,具有去除速率高、使用方便、抛光效果好等特点。抛光后表面的粗糙度可以达到0.2mm以下,同时可以提高晶片的粗糙和平行度等,而且无画伤、无抛光雾产生。本公司在为用户提供高品质产品的同时,降低了加工成本。
精密电子清洗剂
NP-G801
本品特别适用于LCD液晶屏、PCB电路板、LCM模块、半导体晶圆、精密零件、光学镜片、音频磁头、磁性材料等清洗领域去除残留液晶、油污等污染物。
半导体粘结蜡
NP-E80
本产品适用于半导体材料如硅片,锗片,砷化镓,蓝宝石衬底片,碳化硅晶片等表面加工过程中的粘结工艺,还适用于如铌酸锂,钽酸锂,蓝宝石等晶片的加工过程所需要的粘结物。本产品的热伸缩系数小,适合作为精密加工过程中的粘结物质。本产品使用方法简单,只需要选择合适温度熔点的蜡,加热晶片承载盘至蜡的融化温度,然后在均匀涂抹蜡在承载盘上面,放入晶片,然后在晶片施加适当压力冷却至室温。既可以进行抛光加工或者其他表面加工过程。
去蜡清洗剂
NP-E800系列
NP-E800系列去蜡清洗NP-E800系列去蜡清洗剂适用于各种半导体材料、水晶材料、磁性材料等表面加工过程中粘结蜡的清洗,同时对晶片表面颗粒物和各种有机物、指纹等污染物有超强的净洗能力,洗后晶片表面无蜡残留,而且对半导体材料和光学材料本身无腐蚀。剂适用于各种半导体材料、水晶材料、磁性材料等表面加工过程中粘结蜡的清洗,同时对晶片表面颗粒物和各种有机物、指纹等污染物有超强的净洗能力,洗后晶片表面无蜡残留,而且对半导体材料和光学材料本身无腐蚀。
半导体硅片抛光剂
另议
本系列产品适应半导体材料如硅片,锗单晶片,砷化镓晶片的表面抛光工艺,具有去除速率高、使用方便、抛光效果好等特点。抛光后晶片表面的粗糙度可以达到0.2nm以下,同时可以提高晶片的粗糙度和平行度等,而且无划伤,无抛光雾。本公司在为用户提供高质量产品的同时,又降低了加工成本,本系列产品是替代进口产品的最佳选择
蓝宝石衬底抛光剂
NP-P600
蓝宝石衬底抛光剂适用于衬底材料如蓝宝石,碳化硅等超硬晶体的表面抛光.本抛光剂采用国际先进技术,从而实现了快速的抛光速率,而且可以保证抛光片的表面粗糙度达到较高的水平。
Boge博格微油空气压缩机
S60
(Boge波格-S60)(微油)排气量(m2/min):6排气压力(MPa):0.7~0.9排气温度(0C)::(dBA):65电机功率(KW):37电压:(V)/频率Hz:380/50润滑水量(L):30外 长(mm): 1530型 宽(mm): 990尺 高(mm):1600寸 重量(Kg):790
阿特拉斯空压机
Z系列无油螺杆压缩机
Z系列无油螺杆压缩机 排气量:2~126 M3/Min 排气压力:7~10 bar (e)
氨分解制氢装置
AQ系列和HC系列
该系统是一种简便获得氢氮混合气的方法,投资少、效率高。通过自动温控仪控温,阀门调节流量,无需要特别训练的操作人员,即可得到连续稳定的气量,使用寿命更长,更方便。该设备结构紧凑、占地面积小,为整体撬装式;安装过程简单,无须基建,就地摆放,连接好水、电、进出气管就可投入正常生产。分解压力低,一般为0.05MPA;即用即分解,在额定产气范围内可随意波动用气,一般情况下无须储罐储存氢气;为无氧制氢,制氢全过程均为无氧环境.
氮氢自动分配装置
各种型号
适用于对配氢量要求高、氢含量精度在+-01%、各种范围氮气流量的场合,如电子、冶金、化工、化纤、玻璃、医药、热处理等部门;也可用于氢脱氧纯化装置中,实现自动控制。
膜分离制氮装置
NM-3000-1
当混合气体在腊两侧压力差的作用下,渗透速率相对快的气体如水、氢气、拟气、硫化氢、二氧化碳等透过膜后,在膜的渗透侧被富集,而渗透速率相对较慢的气体如甲烷、氮气、一氧化碳和氩气等则被滞留在膜的滞留侧被富集,从而达到混合气体分离的目的。 系统由空气压缩机、过滤器、膜组分离器组成,压缩空气经过滤器过滤后进入膜组,空气中的氧气,水蒸气和少量的二氧化碳透过膜进入膜的另一侧被富集;而氮气在膜滞留侧被富集。被富集的氮气压力几乎和进入膜分离器的压缩空气压力相差不多,动力损耗较小。
氢脱氧纯化装置
NTH系列
普氮和氢气在混合器中充分混合后,在脱氧催化剂的作用下产生2H2+O2=2H2O的化学反应,达到掊氧目的。氮气中的消气经过冷却器脱水,然后氮气继续进入干燥器干燥,使氮气露点达到-60度左右,干燥器配置两台,其中一台干燥器进行吸咐干燥,另一台把已吸咐饱和消气和二氧化碳的干燥器进行再生,为下一吸咐周期做好准备经干燥后的氮气通过过滤器过滤后,最后得到便是高纯度氮气。
碳脱氧纯化装置
NTC系列
在碳载型催化剂的作用下,氮气中的残氧和催化剂本揣所提供的碳发和反应面除去氮气中的氧,反应式为:C+02=C02,脱氧后氮气中的残余水分 有二氧化碳经过冷却器\干燥器脱除,使氮气露点达度左右;干燥器配置两台,其中一台干燥进行吸咐干燥,另一台把忆吸咐饱和水气和二氧化碳的干燥器进行再生,为下一吸咐周期做好准备,经干燥后的氮气通过过滤器除尘,最后得到的便是同纯氮气(含苞欲放氧量,最高脱氧尝试可达1PPM). 适用范围:特别适用于磁性材料\电子行业等对氧\氢有严格要示的工艺.
氮气纯化装置
NTC系列
PSA变压吸咐制氮出来的氮气一般纯度在95%-99.99%之间,如需要更高的氮气纯度,可在PSA制氮装置后配置纯化装车进一步除氧,可使氮气的纯度达到99.99995%以上.
轮胎充气装置
NP95-5B/NP95-10B
全自动高纯度轮胎充氮装轩,采用日本武田碳分子筛,压力控制元件均采用原装进口部件,充分提高品质保障,为用户创造更大的价值。 空气预处理、制氮、产出气缓冲计量,该流程均在二个大容量吸咐塔内一次完成,气路道由网络板集成块组成,结构简洁,操作方便。
变压吸咐(PSA)制氮装置
NT-98
变压吸咐(PSA)制氮装置吸咐制氮装置是以空气为原材料,利用一种高效能、高选择的固体吸咐剂对氮和氧的选择性对空气中氮和氧的分离出来。
导片机装片机
DP-3
导片机装片机硅料腐蚀清洗机设备简介: 1)主要用于太阳能片生产中硅料的清洗、腐蚀。2)工艺流程:喷淋+龙头→碱液加热→QDR+氮气鼓泡→ 盐酸→QDR+氮气鼓泡 3)本设备采取手动控制,其工艺时间可以自行调节
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