1. NP-E800系列去蜡清洗NP-E800系列去蜡清洗剂适用于各种半导体材料、水晶材料、磁性材料等表面加工过程中粘结蜡的清洗，同时对晶片表面颗粒物和各种有机物、指纹等污染物有超强的净洗能力，洗后晶片表面无蜡残留，而且对半导体材料和光学材料本身无腐蚀。
特点
² 高效：清洗快速，清洗过程只需要5～15分钟即可，清洗能力强。
² 使用方便：清洗工艺简单，清洗操作方便，保持清洗剂沸腾或配合超声设备使用。
² 安全环保：本清洗剂为水基配方，不含有毒、有害成分，对人体无伤害，残液排放后15天可以自然降解。
2. 使用范围及参数
适用于各种半导体材料、水晶材料、磁性材料等晶片表面加工过程中去蜡的清洗过程
型号 | 比重 | pH | 稀释比例 | 使用温度 | 适用范围 |
NP-E800 | 1.00～1.05 | 11.0 | 5~10 | ＞80℃ | 碱性，针对中高温蜡 |
NP-E801 | 1.00～1.05 | 7.0～8.0 | 5~10 | ＞80℃ | 中性，针对中高温蜡 |
NP-E802 | 1.00～1.05 | 7.0～8.0 | 5~10 | ＞55℃ | 中性，针对砷化镓低温清洗 |
NP-E803 | 1.00～1.05 | 7.0～8.0 | 5~10 | ＞95℃ | 中性，其他规格蜡的清洗 |
NP-E810 | 0.95～1.00 | —— | 原液使用 | 40～80℃ | 溶剂型，适用各种蜡 |
NP-E820 | 1.00～1.05 | 7.0～8.0 | 5~10 | 40～80℃ | 与NP-E810配套使用 |
3.清洗工艺
NP-E800系列去蜡清洗剂可配合超声清洗设备使用，也可在特定温度下浸泡式清洗。